ASML与台积电共同发起一项产业合作倡议，旨在推动向12英寸光掩模的转型，以最大化High NA EUV光刻技术的价值。该倡议目标于2031年前建立一条12英寸光掩模试产线，并于2033年前为先进制程节点生产做好完整光刻系统准备。值得强调的是，该倡议获得产业界的广泛支持，多家High NA EUV采用者及其他主要供应商已表达加入意向。（彭博）